Вакуумная установка для нанесения интерференционных покрытий OAC 25
![](/images/OAC-25angle.jpg)
Высокий вакуум достигается за счет без масляной откачки турбомолекулярным насосом без использования высоковакуумного затвора, что позволяет сократить время достижения рабочего давления, тем самым увеличить производительность.
Основные узлы:
- Электронно-лучевой испаритель c многопозиционным тиглем
- Резистивный (термический) испаритель
- Ионным источник для финишной подготовки напыляемой поверхности и ассистирования наносимых слоев
- Система кварцевого контроля толщины и скорости осаждаемого покрытия с функцией автоматической корректировки процесса испарения вещества под заданные значения
- Управление установкой осуществляется через удобный графический интерфейс.
На установке наносятся различные тонкоплёночные покрытия в диапазоне 2-14 мкм.
Вакуумная установка для нанесения интерференционных покрытий OAC 60
![](/images/oac-60.jpg)
Высокий вакуум достигается за счет без масляной откачки турбомолекулярным насосом без использования высоковакуумного затвора, что позволяет сократить время достижения рабочего давления, тем самым увеличить производительность.
Основные узлы:
- Электронно-лучевой испаритель c многопозиционным тиглем;
- Резистивный (термический) испаритель;
- Ионным источник для финишной подготовки напыляемой поверхности и ассистирования наносимых слоев;
- Системой кварцевого контроля толщины и скорости осаждаемого покрытия с функцией автоматической корректировки процесса испарения вещества под заданные значения;
- Управление установкой осуществляется через удобный графический интерфейс.
На установке наносятся различные тонкоплёночные покрытия в диапазоне 2-14 мкм.
Вакуумная установка для нанесения прецизионных оптических покрытий OAC 75
![](/images/OAC-75%20F.jpg)
Высоковакуумная без масляная откачка осуществляется за счет криогенного насоса.
Основные узлы:
- Два электронно-лучевых испарителя;
- Резистивный (термический) испаритель;
- Источник высокоплотной плазмы COPRA IS 200;
- Система кварцевого контроля толщины и скорости осаждаемого покрытия с функцией автоматической корректировки процесса испарения вещества под заданные значения;
- Система оптического контроля напыляемого покрытия на пропускание измеряемого по «пролетающему свидетелю»
- Управление установкой осуществляется через удобный графический интерфейс.
Применение источника высокоплотной плазмы COPRA IS 200 наряду с криогенной откачной позволяют получать покрытия с высокой лучевой стойкостью.
Система оптического контроля по движущемуся свидетелю с функцией автоматической корректировки толщин напыляемых слоев в реальном времени позволяет получать сложные высокоточные оптические покрытия.
Установка применяется для нанесения различных покрытий в диапазонах УФ, видимом и ближнем ИК.