Вакуумная техника
Вакуумная установка для нанесения интерференционных покрытий OAC 25
Высокий вакуум достигается за счет безмасляной откачки турбомолекулярным насосом без использования высоковакуумного затвора, что позволяет сократить время достижения рабочего давления, тем самым увеличить производительность.
Основные узлы:- Электронно-лучевой испаритель c многопозиционным тиглем
- Резистивный (термический) испаритель
- Ионным источник для финишной подготовки напыляемой поверхности и ассистирования наносимых слоев
- Система кварцевого контроля толщины и скорости осаждаемого покрытия с функцией автоматической корректировки процесса испарения вещества под заданные значения
- Управление установкой осуществляется через удобный графический интерфейс.
На установке наносятся различные тонкоплёночные покрытия в диапазоне 2-14 мкм.
Вакуумная установка для нанесения интерференционных покрытий OAC 60
Высокий вакуум достигается за счет без масляной откачки турбомолекулярным насосом без использования высоковакуумного затвора, что позволяет сократить время достижения рабочего давления, тем самым увеличить производительность.
Основные узлы:- Электронно-лучевой испаритель c многопозиционным тиглем;
- Резистивный (термический) испаритель;
- Ионным источник для финишной подготовки напыляемой поверхности и ассистирования наносимых слоев;
- Системой кварцевого контроля толщины и скорости осаждаемого покрытия с функцией автоматической корректировки процесса испарения вещества под заданные значения;
- Управление установкой осуществляется через удобный графический интерфейс.
На установке наносятся различные тонкоплёночные покрытия в диапазоне 2-14 мкм.
Вакуумная установка для нанесения прецизионных оптических покрытий OAC 75
Высоковакуумная безмасляная откачка осуществляется за счет криогенного насоса.
Основные узлы:- Два электронно-лучевых испарителя;
- Резистивный (термический) испаритель;
- Источник высокоплотной плазмы COPRA IS 200;
- Ионный источник End Hall;
- Система кварцевого контроля толщины и скорости осаждаемого покрытия с функцией автоматической корректировки процесса испарения вещества под заданные значения;
- Система оптического контроля напыляемого покрытия на пропускание измеряемого по «пролетающему свидетелю»
- Управление установкой осуществляется через удобный графический интерфейс.
Применение источника высокоплотной плазмы COPRA IS 200 наряду с криогенной откачкой позволяют получать покрытия с высокой лучевой стойкостью.
Система оптического контроля по движущемуся свидетелю с функцией автоматической корректировки толщин напыляемых слоев в реальном времени позволяет получать сложные высокоточные оптические покрытия.
Установка применяется для нанесения различных покрытий в диапазонах УФ, видимом и ближнем ИК.
Вакуумная установка компании “Guotai Vacuum Equipment” Модель GTH1150
Вакуумная установка достигает высокий вакуум благодаря 4-м турбомолекулярным насосам за считанные мину, что позволяет начать процесс через 30 минут с момента закрытия двери.
Основные узлы:
- Два электронно-лучевых испарителя;
- Два резистивных (термический) испарителя;
- Источник End Hall;
- Система кварцевого контроля толщины и скорости осаждаемого покрытия с функцией автоматической корректировки процесса испарения вещества под заданные значения;
- Система оптического контроля напыляемого покрытия на пропускание измеряемого по «пролетающему свидетелю»
- Управление установкой осуществляется через удобный графический интерфейс.